电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代（M<sub>O</sub>）植株生长发育影响的初步研究

王丹; 任少雄; 李卫锋; 苏乾治; 苏军

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电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代（M_O）植株生长发育影响的初步研究

研究简报 | 更新时间：2023-03-30

- 电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代（M_O）植株生长发育影响的初步研究
- Plant growth of E-beam irradiated or ion implanted seeds of ornamental Celosia
- 辐射研究与辐射工艺学报 2006年24卷第3期页码：188-192
- 作者机构：
  
  1.西南科技大学生命科学与工程学院　绵阳　621002
  2.四川久远科技股份有限公司辐照中心　绵阳　621000
- 作者简介：
  
  王丹，女，1962年6月出生，1988年毕业于西南农业大学，果树学专业，硕士，教授，研究方向为园艺植物遗传育种学
- 基金信息：
  
  中国工程物理研究院军民两用开发技术项目(200305)
- DOI：
  中图分类号：
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王丹, 任少雄, 李卫锋, 等. 电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代（M_O）植株生长发育影响的初步研究[J]. 辐射研究与辐射工艺学报, 2006,24(3):188-192.

WANG Dan, REN Shaoxiong, LI Weifeng, et al. Plant growth of E-beam irradiated or ion implanted seeds of ornamental Celosia[J]. Journal of Radiation Research and Radiation Processing, 2006,24(3):188-192.
王丹, 任少雄, 李卫锋, 等. 电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代（M_O）植株生长发育影响的初步研究[J]. 辐射研究与辐射工艺学报, 2006,24(3):188-192. DOI：

WANG Dan, REN Shaoxiong, LI Weifeng, et al. Plant growth of E-beam irradiated or ion implanted seeds of ornamental Celosia[J]. Journal of Radiation Research and Radiation Processing, 2006,24(3):188-192. DOI：

摘要

利用电子束和氮离子、氢离子注入处理普通鸡冠花干种子，试验结果表明，两种诱变处理均能显著抑制鸡冠花植株的生长、发育，并能有效地诱发花性状变异，变异株率可达0.5%—2%。电子束处理鸡冠花干种子的半致死剂量（LD,50,）经测定为1.2kGy左右；离子注入处理的半致死剂量随注入离子种类不同而不同，N,+,注入的半致死剂量（LD,50,）为1.6×10,17,/cm,2,，H,+,注入的半致死剂量应低于1.6×10,16,/cm,2,。鸡冠花干种子电子束处理的适宜剂量为1.5kGy左右，离子注入处理的适宜方法是N,+,1.6×10,16,/cm,2,。同时鸡冠花对高剂量辐照较不敏感，是一种耐强辐照的资源。

Abstract

Celosia seeds were irradiated by 3MeV electron beams or implanted with 30keV N,+, or H,+, ions, The results showed that the two kinds of treatments could inhibit growth and development of the plants and induce variation of the flower. The variation rate was between 0.5%—2%. LD,50, of the seeds irradiation by the E-beams was estimated at about 1.2kGy. LD,50, of the seed ion implantation varied with the ion. LD,50, of H,+, ion implantation was 1.6×10,17, ions/cm,2, and LD,50, of N,+, ion implantation was less than 1.6×10,16, ions /cm,2,. Suitable treatments of the seeds were 1.5kGy E-beam irradiation, or implantation of1.6×10,16, N,+, /cm,2,. The seeds were not sensitive to higher dose irradiation or ion implantation. And it seems that Celosia seeds have strong radiation resistance.

关键词

鸡冠花电子束离子注入干种子生长发育

Keywords

CelosiaElectron beamIon implantationDry seedsGrowth and development

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Plant growth of E-beam irradiated or ion implanted seeds of ornamental Celosia

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