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基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除
辐射化学 | 更新时间：2025-02-28
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    • 基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除

    • Preparation of large-size UiO-66-S films based on radiation grafted substrates and its mercury ion-removal performance in artificial plasma

    • “在提高重金属中毒治愈率领域，研究人员开发了基于辐射接枝基底的宏尺寸金属有机框架UiO-66-S膜，实现了对汞离子的高效选择性清除。”
    • 辐射研究与辐射工艺学报   2020年38卷第3期 页码：29-38

    • DOI：10.11889/j.1000-3436.2020.rrj.38.030203    

      中图分类号： TL13

    • 收稿日期：2019-12-26，

      修回日期：2020-01-24，

      录用日期：2020-01-24，

      纸质出版日期：2020-06-20

    移动端阅览

  • 高健,柳美华,魏巍等.基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除[J].辐射研究与辐射工艺学报,2020,38(03):29-38. DOI： 10.11889/j.1000-3436.2020.rrj.38.030203.

    GAO Jian,LIU Meihua,WEI Wei,et al.Preparation of large-size UiO-66-S films based on radiation grafted substrates and its mercury ion-removal performance in artificial plasma[J].Journal of Radiation Research and Radiation Processing,2020,38(03):29-38. DOI： 10.11889/j.1000-3436.2020.rrj.38.030203.

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