六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合

王世才; 陈捷; 卢丽珍; 王凤德

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六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合

研究论文与科研成果报告 | 更新时间：2023-04-23

- 六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合
- PLASMA POLYMERIZATION OF HEXAMETHYLDISILAZANE AND OCTAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE
- 辐射研究与辐射工艺学报 1987年5卷第1期页码：27-32
- 作者机构：
  
  1.中国科学院长春应用化学研究所
- 作者简介：
  
  *大连工学院化工系1983年应届毕业生
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
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王世才, 陈捷, 卢丽珍, 等. 六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报, 1987,5(1):27-32.

Wang Shicai, Chen Jie, Lu Lizhen, et al. PLASMA POLYMERIZATION OF HEXAMETHYLDISILAZANE AND OCTAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE[J]. Journal of Radiation Research and Radiation Processing, 1987,5(1):27-32.
王世才, 陈捷, 卢丽珍, 等. 六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报, 1987,5(1):27-32. DOI：

Wang Shicai, Chen Jie, Lu Lizhen, et al. PLASMA POLYMERIZATION OF HEXAMETHYLDISILAZANE AND OCTAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE[J]. Journal of Radiation Research and Radiation Processing, 1987,5(1):27-32. DOI：

摘要

在外部电极电容耦合的辉光放电中进行了六甲基二硅氮烷和八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合，考察了压力、功率以及等离子气体对聚合速率的影响。用红外光谱、X-射线衍射和溶解度等方法研究了聚合物的结构，并研究了聚合物的热稳定性、耐溶剂性和疏水性，测定了聚合膜的密度和折射率。

Abstract

In a capacitively coupled discharge with external electrodes, hexamethyldisilazane and octamethylcyclotetrasiloxane were polymerized, and the effects of system pressure, discharge power and plasma gas on the polymerization rate were studied. The polymer structure was researched through IR spectroscopy, X-ray diffraction and solubility measurements, and some properties of the polymer such as thermostability, solvent resistence, hydrophobicity, density and refrection index were also determined.

关键词

六甲基二硅氮烷的等离子体聚合聚六甲基二硅氮烷膜的接触角八甲基环四硅氧烷的等离子体聚合聚八甲基环四硅氧烷膜的接触角

Keywords

Plasma polymerization of hexamethyldisilazaneContact angle of Plasma-polymerized hexamethyldisilazane filmPlasma polymerization of octamethylcyclotetrasiloxaneContact angle of Plasma-polymerized octamethylcyclotetrasiloxane film

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