在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合

余自力; 叶牧; 卢丽珍; 陈捷

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在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合

更新时间：2023-04-23

- 在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合
- PLASMA POLYMERIZATION OF HEXAMETHYLCYCLOTRISILOXANE IN NITROGEN-CONTATING GASES
- 辐射研究与辐射工艺学报 1989年7卷第3期页码：10-14
- 作者机构：
  
  1.中国科学院长春应用化学研究所，长春
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助课题
- DOI：
  中图分类号：
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余自力, 叶牧, 卢丽珍, 等. 在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报, 1989,7(3):10-14.

Yu Zili, Ye Mu, Lu Lizhen, et al. PLASMA POLYMERIZATION OF HEXAMETHYLCYCLOTRISILOXANE IN NITROGEN-CONTATING GASES[J]. Journal of Radiation Research and Radiation Processing, 1989,7(3):10-14.
余自力, 叶牧, 卢丽珍, 等. 在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报, 1989,7(3):10-14. DOI：

Yu Zili, Ye Mu, Lu Lizhen, et al. PLASMA POLYMERIZATION OF HEXAMETHYLCYCLOTRISILOXANE IN NITROGEN-CONTATING GASES[J]. Journal of Radiation Research and Radiation Processing, 1989,7(3):10-14. DOI：

摘要

用外部电极电容耦合式辉光放电装置研究了六甲基环三硅氧烷在NH,3,或N,2,中的等离子体聚合。用红外光谱，X线光电子能谱研究了聚合物结构，并测定了聚合物的热稳定性及对水的接触角，计算了聚合物的表面能。结果表明，NH,3,和N,2,都参加了聚合反应，N在聚合物中的存在形式主要为C= NH，随NH,3,在反应体系中浓度的增加，聚合物中的N含量也增加，在NH,3,中制备的聚合膜有很好的疏水性。

Abstract

In a capacitively coupled discharge with external electrodes, hexamethylcyclotrisiloxane (D,3,) was polymerized in the presence of ammonia or nitrogen. The polymer structure was investigated by IR spectroscopy and XPS, and properties of the polymer were studied by TG analysis and contact angle detection. The results show that both N,2, and NH,3, participated into reaction and eventually incorporated into polymer structure mainly in the form of C=NH, and the N/Si ratio increased with increasing NH,3, concentration in the D,3,/NH,3, mixture. The polymeric films prepared in NH,3, are possessed of good hydrophobicity.

关键词

六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合聚六甲基环三硅氧烷的接触角聚六甲基环三硅氧烷的表面能

Keywords

Plasma polymerization of hexamethylcyclotrisiloxaneContact angle of plasma polymerized hexamethylcyclotrisiloxaneSurface energy of plasma polymerized hexamethylcyclotrisiloxane

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